DESK蒸镀/溅射系统

PD-200C台式溅射镀膜机

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产品概述:

该系统是我公司专为实验室应用需要而开发的小型多靶磁控溅射镀膜试验平台。该系统占地小,操作方便;广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜,以及新材料、新工艺研究。

详细信息
DESK系列小型台式溅射系统是我公司专为实验室应用需要而开发的小型磁控溅射镀膜试验平台。该系统兼容直流和射频溅射源,溅射金属、非金属及化合物薄膜(如:ITO)等;广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜,以及新材料、新工艺研究。
设备特点:
★全不锈钢真空腔室,保证系统的耐久性及操作安全性;更合理的气路设计及细节考虑;
★更的小体积,系统采用模块化设计可扩展性高在保证系统稳定性的前提下,进一步优化您的实验室利用空间;
★系统采用机械泵+进口分子泵组成高真空系统,抽到工作高真空仅需15-20min,节省实验时间。
技术指标:
名称 PD-200C台式溅射镀膜设备
真空镀膜室 304不锈钢材料,圆柱式,门上配有观察窗;镀膜室内净尺寸约为:直径260*H280mm。
真空系统 机械泵+分子泵(进口)
真空测量 Inficon公司(进口)全量程真空计,确保测量控制精度。
真空极限 优于3×10-5Pa,达到3×10-4Pa≤15min。
旋转基片台 承载最大直径80mm基片;基片台磁流体密封,电机驱动基片台旋转,旋转速度0-20转/分钟可调。
均匀性指标 80mm直径范围内不均匀性《5%
磁控溅射源及电源 2英寸磁控溅射靶2-3支+1KW直流/中频/射频溅射电源1套。
进气系统 固定流量控制,流量计20sccm,可以配置1-3路进气,控制精度优于最大流量的+/-1%。
控制方式 手动逻辑按钮控制或PLC触摸屏控制可选;完善的逻辑程序互锁保护及异常报警。
选配 磁控靶/样品台加热或水冷/干泵/流量计/配套升级托架/循环水冷机
设备配电 电压:AC220V/50HZ功率:2.5KW
设备尺寸 长×宽×高:500*360*380mm