磁控溅射系统

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PD-500磁控溅射镀膜机

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产品概述:

磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可在最大6英寸基片上沉积金属、半导体、介质材料 可用于溅射多层薄膜和共溅合金薄膜。可以选配自动进样室功能全面,使用灵活,适合用于研发及小批量生产要求。

详细信息
产品简述:
       系统采用共焦式溅射或公自转结构可选择,工件尺寸4-6英寸。可以配置4个3英寸圆形溅射阴极,或者4个直径2英寸圆形溅射靶枪;具有选择配备离子源清洗功能。可以实现直流溅射、中频溅射、射频反应溅射,共溅射。可以配置自动进样室,选配射频偏压预清洗、工件加热功能,功能全面,使用灵活,适合用于研发及小批量生产要求。
设备特点:
★一体化设计精细布局,更节省的空间和更精致的外形;
★合理的进气设计、靶的角度高度可调以保证更优的均匀性。
技术指标:
名称 PD-500磁控溅射镀膜机
真空室 方形真空室,304不锈钢制造,内部电抛光,立式前开门,带一个4英寸观察窗。
自动进样室(可选项) 自动传送4-6英寸工件盘
高真空泵 1600L/S分子泵+机械泵,极限真空优于5E-5Pa,从大气抽到5E-4Pa时间少于30分钟。
溅射靶 四个直径3英寸圆形靶枪,溅射4英寸工件,4英寸均匀性优于+/-4%。
靶枪均为角度可调型,倾斜角度0-40度可调。
电源 1KW直流电源,功率控制,最高输出电压800V,2英寸靶枪最大直流功率350W,3英寸靶枪最大直流功率700W。
500W射频电源,功率控制,2英寸靶枪最大射频功率200W,3英寸靶枪最大射频功率350W,电源自动匹配。
配置自动切换器,一个电源可以切换支持多个靶枪工件。
进气控制 流量计流量可选,可以配置多路进气。
加热控制 铠装加热丝加热,加热最高600度。
工件台 普通工件台、加热工件台、水冷工件台、射频偏压工件台,多种功能组合工件台可选择。
控制系统 PLC+触摸屏全自动控制