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产品概述：
该系统采用大抽速分子泵准无油高真空系统，真空机电一体化设计占地小（长*宽：550*900mm）节省实验室空间，金属蒸发源与有机蒸发源可兼容，性价比高，操控简便。广泛应用于科研院所、实验室蒸镀电极、扫描电镜制样，以及OLED、太阳能电池研究。
产品简述：PD-300高真空电阻蒸发镀膜设备，采用大抽速分子泵准无油高真空系统，真空机电一体化设计，金属蒸发源与有机蒸发源可兼容，性价比高，操控简便。广泛应用于科研院所、实验室蒸镀电极、扫描电镜制样，以及OLED、太阳能电池研究。
设备特点：
★广泛应用于蒸发金、银等贵金属材料的电极制备，适合半导体剥离工艺，节省蒸镀材料；
★占地小长*宽550*900mm 全不锈钢真空腔室，保证系统的耐久性及操作安全性；
★分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥300L/S）；
★2-4组蒸发源；兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；
★专业真空蒸发电源，恒流输出；
★最大110mm基片/15*15mmITO玻璃25片，源基距大于300mm；
★良好的薄膜均匀性和重复性，在线监测膜厚；
★更合理的气路设计及细节考虑。
技术指标：
| 名称 | PD-300高真空电阻蒸发镀膜设备 |
| 真空室 | 300×300×H450mm |
| 304不锈钢真空室,立式前开门结构；配内衬防污板。 | |
| 真空系统 | 分子泵+机械泵 |
| 极限真空 | 优于5×10-5Pa |
| 恢复真空时间 | 达到5×10-4Pa≤25min |
| 金属蒸发源 | 2—3组蒸发源，可选 |
| 有机蒸发源 | 束源炉式有机蒸发源自带控温0-500℃可调，一体化挡板可调角度（0-15°），2—3组蒸发源，可选。 |
| 电控系统 | 手动逻辑按钮控制或PLC触摸屏控制可选；完善的逻辑程序互锁保护及异常报警。 |
| 选配 | 冷却循环水机/进口膜厚监控仪/基片台加热或水冷/腔室灯烘烤/掩膜板mask/蒸发电源/钨舟钼舟 |
| 设备配电 | 电压：AC220V/50HZ （380V可选） |
| 功率：≤6KW | |
| 设备尺寸 | 长×宽: 1100mm×750mm×1500mm |
