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产品概述：
该系统是我公司专为实验室应用需要而开发的小型多源高真空蒸发镀膜试验平台。该系统可蒸镀金属、有机物等薄膜材料；适用于科研院所、实验室制备金属电极层、扫描电镜制样以及新材料、新工艺的研究。
| 名称 | PD-200I台式蒸发镀膜设备 |
| 真空镀膜室 | 304不锈钢材料，圆柱式，门上配有观察窗；镀膜室内净尺寸约为：直径260*H310mm。 |
| 真空系统 | 机械泵+分子泵（进口） |
| 真空测量 | Inficon公司(进口)全量程真空计，确保测量控制精度。 |
| 真空极限及抽速 | 优于3×10-5Pa（2×10-7Torr），达到3×10-4Pa≤15min。 |
| 旋转基片台 | 承载最大直径120mm基片或方形基片；配有基片台挡板；基片台磁流体密封，电机驱动基片台旋转，旋转速度0-20转/分钟可调。 |
| 均匀性指标 | 120mm直径范围内不均匀性《5%。 |
| 蒸发电极及电源 | 2～3组蒸发源（兼容金属与有机），可共蒸或切换蒸发； 2KW，恒流/恒功率控制，可以预设工作电流。 |
| 控制方式 | 手动逻辑按钮控制或PLC触摸屏控制可选；完善的逻辑程序互锁保护及异常报警。 |
| 选配 | 进口膜厚仪/有机蒸发源/样品台加热或水冷/干泵/配套升级托架/循环水冷机 |
| 设备配电 | 电压：AC220V/50HZ功率：3.5KW |
| 设备尺寸 | 长×宽×高:500*360*420mm |
