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PD-MW200微波等离子体化学气相沉积设备

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产品概述:

该系统由我公司和国内金刚石领域专家联合开发。具有结构合理、使用方便、性能先进、安全可靠等特点。特别适合应用于金刚石等多种薄膜的生长制备;材料表面处理和改性;以及低温氧化物的生长等高科技领域。

详细信息
产品简述:我公司与国内金刚石领域专家联合开发的微波等离子体化学气相沉积装置具有结构合理、使用方便、性能先进、功能完善、安全可靠等特点。特别适合应用于金刚石等多种薄膜的化学气相沉积(CVD);材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等高科技领域。
设备特点:
★通过特殊的微波等离子体反应腔设计,得到可稳态运行于1-100kPa的微波等离子体源。
★利用该等离子体装置制备CVD单晶金刚石时,金刚石的生长速率可达20-50微米/小时。
★该装置的显著优点是利用较低的微波功率获得高功率密度的微波等离子体,特别适合科研、教学之用。
★微波功率0-800W可调,
★用于单晶金刚石制备时,一次可以放置4mm*4mm或5mm*5mm单晶片4片。
技术指标:

名称 PD-MW200微波等离子体化学气相沉积设备
微波功率 100W~1kW连续可调,最高大功率可达1kW;稳定度优于±1%。
微波的反应腔
尺寸和工作模式:φ88mm×250mm  ;铝真空腔,带水冷结构;
调节功能: 耦合波导短路活塞: L2  0~120mm;耦活探针深度: L3  0~20mm。
均匀生长区尺寸 φ16mm
气路系统 3路MFC控制。
真空系统 极限真空:0.5pa;机械泵+阀门+电阻真空计+压敏真空计。
选配件 1循环水机   V>4L/min;
2.稳压电源   功率5KW 若实验室电压不稳定需配备;
3. 红外测温仪  量程:室温至1500℃。