[案例交付]普迪真空助力香港中文大学科研创新

2025年3月14日，武汉普迪真空科技有限公司正式向香港中文大学（CUHK）交付两套高端科研设备 —— 高真空蒸发镀膜系统 PD-400S 与热型原子层沉积 ALD-T100G 系统。此次合作标志着普迪真空在半导体、新能源材料等前沿领域的技术突破，也为高校科研提供了关键装备支撑。

2025年3月14日，武汉普迪真空科技有限公司正式向香港中文大学（CUHK）交付两套高端科研设备 —— 高真空蒸发镀膜系统 PD-400S 与热型原子层沉积 ALD-T100G 系统。此次合作标志着普迪真空在半导体、新能源材料等前沿领域的技术突破，也为高校科研提供了关键装备支撑。

1、交付设备简介

l高真空蒸发镀膜系统｜PD-400S

核心技术：超高真空环境（≤5×10⁻⁷ Torr）下实现金属、氧化物薄膜的高精度沉积。

应用场景：半导体器件、光学镀膜、纳米材料研究。

独特优势：

✅ 全自动膜厚监控，误差＜1nm

✅ 多源共蒸技术，支持复杂异质结构

✅ 模块化设计，兼容多种实验需求

l热型原子层沉积系统｜ALD-T100G

技术亮点：精准控制原子级薄膜生长，实现亚纳米级均匀性与致密性。

科研价值：

✅ 适用于二维材料、柔性电子、能源催化等前沿领域

✅ 温控范围广（50-450℃），适配敏感基底

✅ 支持氧化物、氮化物、金属等多种材料体系

2、交付现场直击

（1）定制化服务

普迪真空团队根据港中大实验室空间与科研目标，优化设备布局与功能配置。

（2）严格验收

安装完成后，双方联合完成真空度测试、膜厚均匀性验证等几十余项关键指标检测，设备性能远超预期！

（3）技术培训

为期一周的操作培训与工艺指导，确保科研团队快速上手。

关于普迪

武汉普迪真空科技有限公司是国家级高新技术企业，入选第六批国家级专精特新"小巨人”企业名单，荣获光谷瞪羚企业称号，累计获得专利 30 余项。产品覆盖光电子、半导体、微电子、传感器、新能源光伏锂电等领域，客户遍布全球科研院所与龙头企业。