【普迪真空交付案例】4月10日深圳大学

2025年4月10日，武汉普迪真空科技有限公司正式向深圳大学交付科研设备 —— 溅射镀膜仪PD-300C和溅射镀膜仪PD-400CS，助力其科研事业迈向新高度。

01交付设备简介

溅射镀膜仪PD-300C

溅射镀膜仪PD-300C是一种利用物理气相沉积（PVD）技术，在真空环境下通过离子束轰击靶材表面，将靶材原子转移到基片上形成薄膜的设备，具有低温、高精度、可调控性强等特点。

✔ 优点

● 设备采用共焦溅射结构，靶枪高度、角度可以调节；

● 可配备2支2英寸靶枪或2支3英寸靶枪；

● 托盘3英寸范围内均匀性优于±3%~±5%。

✔ 应用领域

高校科研院所实验室制备金属电极层，扫描电镜制样以及新能源材料相关的有机新材料、新工艺的研究。

溅射镀膜仪PD-400CS

作为普迪真空自主研发的科研设备，溅射镀膜仪PD-400CS集成了多项先进技术。

✔ 优点

● 2支大面积矩形射靶，往复式最大可镀300mmx300mm样品架(也可以溅射圆形靶)；

● 配备低气压溅射技术，制备薄膜致密，对基底损伤小；

● 西门子PLC+触摸屏手自动控制或电脑全自动控制。

✔ 应用领域

高校科研院所实验室进行钙钛矿太阳能电池、 OLED、锂电池、量子点LED、OPV等产业研发专用设备，也可制备ITO氧化物、氮化物、金属等薄膜材料。

02交付现场直击

设备抵达校园后，普迪真空的售后工程师迅速开展安装调试工作。在深圳大学指定的实验室场地，工程师们严格按照操作规范，对设备的机械结构、真空系统、电气系统等逐一进行细致检查与调试。

在真空系统调试环节，工程师通过专业仪器，将系统真空度精准调控至符合设备运行要求的指标，对离子束加速与约束系统进行参数优化，使离子束能量、束流密度等达到最佳状态，保证薄膜沉积的均匀性与稳定性。经过数小时的紧张工作，两台溅射镀膜仪顺利完成安装调试。

紧接着，普迪真空的工程师团队开展了全方位的培训工作。培训内容涵盖设备原理讲解、详细的操作演示以及常见故障排查与维护等。培训采用理论与实践相结合的方式，科研人员在工程师的指导下亲自上手操作设备，进行模拟镀膜实验，对设备操作逐渐熟练掌握。

此次普迪真空向深圳大学交付 溅射镀膜仪PD-300C 和 溅射镀膜仪PD-400CS 将助力深圳大学科研人员在材料科学、半导体技术、电子器件研发等多领域开展前沿研究，为产出高质量科研成果提供坚实的硬件支撑，携手推动我国科研事业不断向前发展。