【普迪真空交付案例】9月8日吉林大学

吉林大学交付案例

2025年9月8日，武汉普迪真空科技有限公司正式向吉林大学交付3套科研设备 ——高真空蒸发镀膜系统PD-400S、磁控溅射镀膜系统PD-400C、热型原子层沉积系统PDALD-T100B。此次设备交付，标志着双方在科研合作方面迈出了坚实的一步，也将为吉林大学相关科研项目的开展注入新的活力。

交付设备简介

高真空蒸发镀膜系统PD-400S

设备优点

• 膜厚均匀性优异(±3%~±5%)重复性优异(±3%

  ±5%)

• 蒸发Au 等贵金属省材料发热小，样品台升温不会超过 60℃

• 自动控制蒸发源输出，可选配共蒸发制备工艺

• 可与手套箱进行对接

磁控溅射镀膜系统PD-400C

设备优点

• 3个3英寸圆形靶枪，杆状安装，共焦向上溅射

• 托盘4英寸范围内均匀性优于±3%~±5%

• 可沉积金属、半导体和绝缘材料，可拓展沉积多层 膜及复合膜

热型原子层沉积系统PDALD-T100B

设备优点

• 配置高性能薄膜真空计和大气压力检 测真空计，可实时观察ALD 工艺过程中 压强变化

• 自动控制软件，具有CDA 报警以及防 温度失控硬件保护功能，保障ALD工艺 安全性

• 沉积材料：Hf02、Zr02、Sn02、

• A1203 、ZnO 、TiO2 等，沉积薄膜非均 匀性<±2%

• 提供38℃氧化铪工艺for14nm 及以下 集成电路先进工艺节点TEM分析，防止 电子束对低温光刻胶的损伤和变形，氧 化铪镀膜3nm 工艺时间<15min