产品简述：
       该设备为连续式多室腔室磁控溅射镀膜系统，可用于Ti、Cu、Ni等各种金属膜及介电薄膜、氧化物薄膜的制备，在工件上制作单面或双面的单层膜和多层膜。系统总体结构包括：真空系统、阴极系统、工件架系统、气路系统、工件烘烤系统、行走及驱动系统、冷水系统、电源系统、安全及报警系统、PLC自动化控制系统、机壳外罩等。
设备特点：
★结构设计紧凑，布局合理；合理利用空间且方便检修;
★设备配备小车进料出料，方便快捷，节省镀膜生产时间；
★样品架移动加偏压设计，提高膜层结合力;
★双轨道设计稳定可靠即使在高温环境下小车各室传递及运动也能平稳匀速，从而保证薄膜质量。
 技术指标：

名称	PD-5000连续式磁控溅射镀膜机
真空室（三/五腔室）	2600x2200x450mm
极限真空度	2.0x10-4 Pa
送样室抽速	≤15min
镀膜不均匀性	±5％（次间、批间）
真空系统压强稳定度	±3%
溅射靶	800×120×7mm  2-4支根据实际需要选择配备
靶材利用率	≥35%
样品加热	加热温度≥300℃，控制精度±1度，均匀性±5°
工件尺寸	100mm×100mm~125mm×125mm；
有效溅射面积	670mm×80mm
产能	≥240片（双面）/480片（单面）/天