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产品概述：
该系统配置一个多坩埚电子束蒸发源可同时选择搭配多组电阻蒸发源，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料；应用于研究所、高校科研制备导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等及企业的批量生产。
| 名称 | PD-600电子束蒸发镀膜机 |
| 真空室 | 圆柱形真空室，304不锈钢制造，内径600mm，高650-800mm，前开门，两个观察窗。 |
| 高真空泵 | 国产分子泵或低温泵可选；极限真空优于5x10-5Pa，从大气抽到8 x10-4Pa≤30分钟。 |
| 电子枪 | 270度E型电子枪 |
| 多孔坩埚电子枪，如4x25cc、6x25cc、8x25cc，或者环形坩埚（150cc或300cc），坩埚尺寸可以定制。 | |
| 10KW或15KW高压电源，高压输出6-10KV可调节。 | |
| 蒸发源 | 采用电阻加热方式蒸发；可配备2组源。 |
| 蒸发速率及膜厚控制 | Inficon SQC-310石英晶体膜厚控制器，控制蒸发速率及膜层厚度。 |
| 离子源 | 霍尔源/射频离子源可选 |
| 用于基片预清洗，也可以用于离子辅助沉积。 | |
| 进气控制 | 流量计最大流量可选，可以配置多路进气。 |
| 加热控制 | 石英灯组加热最高200-300度 |
| 工件架 | 行星式工件架，四个直径6-8英寸行星盘，公转+自转，转速可调。 |
| 穹顶式/自动翻面/平板式工件架可选 | |
| 控制系统 | 西门子PLC+触摸屏全自动控制 |
