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产品概述：
该设备采用热丝法化学气相沉积技术，主要用来生长金刚石膜、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等。该设备适合于科研、教学和生长大尺寸片状多晶金刚石厚膜、刀具表面生长金刚石膜中试应用。
| 名称 | PD-450热丝化学气相沉积设备 |
| 型号 | 定制 |
| 沉积室尺寸 | Φ450×H350mm |
| 基片台尺寸 | Φ200 |
| 基片台升降 | 100mm |
| 基片台转速 | 0-5转/分（可调） |
| 热丝温度 | 1800℃-2500℃ |
| 衬底温度 | 600℃-1000℃ |
| 制膜种类 | 金刚石厚膜、类金刚石膜、氮化硅和碳化硅膜等。 |
| 电源型式 | 专用热丝电源 300-650A |
| 真空室结构 | 立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷 |
| 极限真空 | 1.3×10-1 Pa |
| 真空系统组成 | 机械泵+维持泵 |
| 真空测量方式 | 两低一高数显复合真空计、薄膜压力计。 |
| 真空控制方式 | 手动按钮控制或PLC+触摸屏自动控制 |
| 工艺气体控制方式 | 4路工艺气体流量控制及显示系统 |
| 报警及保护 | 对泵、样品台等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施。 |
