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产品概述:
该设备可用于Ti、Cu、Ni等各种金属膜及介电薄膜、氧化物薄膜的大面积连续制备,可在工件上制作单面或双面的单层膜和多层膜。系统非常适合制备高均匀性、高重复性的薄膜材料以及产业化。
名称 | PD-5000连续式磁控溅射镀膜机 |
真空室(三/五腔室) | 2600x2200x450mm |
极限真空度 | 2.0x10-4 Pa |
送样室抽速 | ≤15min |
镀膜不均匀性 | ±5%(次间、批间) |
真空系统压强稳定度 | ±3% |
溅射靶 | 800×120×7mm 2-4支根据实际需要选择配备 |
靶材利用率 | ≥35% |
样品加热 | 加热温度≥300℃,控制精度±1度,均匀性±5° |
工件尺寸 | 100mm×100mm~125mm×125mm |
有效溅射面积 | 670mm×80mm |
产能 | ≥240片(双面)/480片(单面)/天 |