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产品概述：
高真空电阻蒸发镀膜设备采用完全封闭的系统框架占地面积：宽650*深1100MM，外观漂亮，使用安全。3～6组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV 钙钛矿 无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
主要特点/优势：
★ 完全封闭的系统框架设计，外观更漂亮，使用更安全；是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品；
★ 前开门真空腔体，方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护；
★ 1200L/s分子泵作为主抽泵，真空极限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr)；另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵，真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr)；
★ 3～6组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计，源间有防止交叉污染隔板；
★ 专业真空蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能；
★ 最大120mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～25rpm连续可调；
★ 衬底可选择加热或水冷，源基距最大350mm；
★ 更优的薄膜均匀性和重复性，采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；
★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；
★ 设备集成度高，结构紧凑，占地面积小（0.7平米）；设备配脚轮，方便移动和定位。
| 真空腔室 | 真空专用304不锈钢腔室尺寸约为350*350*H450mm,方形不锈钢腔体，一体式布局，正面可开启门，便于换丝及装料。 |
| 真空系统 | 分子泵+6L/S直联旋片泵真空系统,气动阀门，真空计。 |
| 真空极限 | 优于5.0×10-5Pa；漏率：优于5×10－8Pa*M3/S（国家标准）； |
| 抽速 | 大气压~5*10-4Pa小于30min； |
| 基片台 | 最大可镀基片尺寸/面积：最大可镀工件直径：120mm*120mm；样品可旋转加热及电动升降，样品台配独立挡板；样品台可加热，加热温度0-300℃控温精度±1℃。基片与蒸发源距离可调，电机升降调节最大范围380～280mm可调。 样品台旋转：样品片台可旋转，0～30转／分 连续可调。 |
| 蒸发电源 | 配2-4组舟式蒸发源，金属源采用水冷铜电极+蒸发舟结构；同时配备2-4套有机蒸发束源炉源炉圆周半径0.5到0.7cm，高2cm，约3ml， |
| 膜厚控制仪 | 选择配备INFICON公司SQC310膜厚仪一套，自动控制蒸发输出，实现自动镀膜。 |
| 控制方式 | 西门子PLC+触摸屏手自动控制；可输入速率及终厚，PID调节自动控制蒸发电源输出。 |
| 报警及保护 | 缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、真空系统检测与保护。对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施； 完善的逻辑程序互锁保护系统。 |
