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设备特点：
★结构设计紧凑，布局合理；合理利用空间且方便检修。
★设备配备小车进料出料，方便快捷，节省镀膜生产时间。
★样品架移动加偏压设计，提高膜层结合力。
★双轨道设计稳定可靠，即使在高温环境下小车各室传递及运动也能平稳匀速，从而保证薄膜质量。
设备参数：
★真空室（三/五腔室）（L×W×Hmm)：2600x2200x450mm
★真空极限：（2E﹣04）Pa
★溅射靶：800×120×7mm 2-4支根据实际需要选择配备
★样品加热：加热温度≥300℃，控制精度±1度，均匀性±5°
★有效溅射面积：670mm×80mm
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