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PD-200I小型蒸发蒸镀设备
产品摘要
该系统是我公司专为实验室应用需要而开发的小型多源高真空蒸发镀膜试验平台。该系统可蒸镀金属、有机物等薄膜材料;适用于科研院所、实验室制备金属电极层、扫描电镜制样以及新材料、新工艺的研究。
产品介绍

设备特点:

★全不锈钢真空腔室,保证系统的耐久性及操作安全性;更合理的气路设计及细节考虑

★更的小体积,系统采用模块化设计可扩展性高在保证系统稳定性的前提下,进一步优化您的实验室利用空间。

★系统采用机械泵+进口分子泵组成高真空系统,抽到工作高真空仅需15-20min,节省实验时间。

设备参数:

腔体尺寸(L×W×Hmm):Φ260×H350(圆柱型)

设备尺寸(L×W×Hmm):500×360×750(500×360×420)

真空极限:优于(5E﹣05)Pa

抽速保压:(8E﹣04)Pa≤30min保压12小时≤5pa

★膜厚均匀性优异(±3%~±5%),重复性优异(±3%~±5%)

★基片台80mm×80mm

蒸发源:可搭配1~2组蒸发源(兼容金属与有机),可共蒸或切换蒸发


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