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设备特点：
★设备采用共焦溅射结构，靶枪高度、角度可以调节
★工艺气体从真空室抽气口前部通入靶面，抽气口位于真空室侧部，保证整个真空室内反应气体浓度稳定一致
★西门子PLC+触摸屏手自动控制或电脑+PLC全自动控制可选
设备参数：
★腔体尺寸（L×W×Hmm)：300×300×380
★设备尺寸（L×W×Hmm)：550×900×1850
★基片台：衬底最高加热温度500℃，室温至200度精度±3℃，300度至500度精度±1.5℃样品台可加负偏压-800V
★真空极限：（5E﹣05）Pa
★抽速保压：（8E﹣04）Pa≤30min保压12小时≤8pa
★托盘均匀性优于±3％~±5%
★溅射靶枪两个（2-3英寸）溅射尺寸2-4英寸
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