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设备特点：
★设备可配备矩形磁控溅射靶，圆形平面靶、柱状靶，多弧靶，离子源等
★设备功能强大、磁控、多弧、离子源等通用接口安装实现任意组合，可最大限度实现多种类膜层的制备
★适合研发实验室初期多用途薄膜制备平台的搭建
设备参数：
★腔体尺寸：304不锈钢腔室Φ650×H700mm
★真空极限：优于（5E﹣05）Pa
★工件架：约Φ350mm，4-6工位公/自转工件架；可加偏压
★工件烘烤温度：室温500±5℃ 可调可控（PID控温）
★工件架转速：0-20RPM可调
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