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设备特点：
★全不锈钢真空腔室，保证系统的耐久性及操作安全性
★更的小体积，系统采用模块化设计，可扩展性高
★系统采用机械泵+进口分子泵组成高真空系统，抽到工作高真空仅需15-20min，节省实验时间
设备参数：
★腔体尺寸（L×W×Hmm)：Φ220×H340（圆柱型）
★设备尺寸（L×W×Hmm)：500×500×750
★基片台：基片样品台加热温度室温≤350°
★真空极限：（5E﹣05）Pa
★抽速保压：（8E﹣04）Pa≤30min保压12小时≤8pa
★托盘均匀性优于±3％~±5%
★溅射靶枪两个2英寸溅射尺寸2-3英寸
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