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电极磁控溅射设备是一种基于物理气相沉积（PVD）技术的高端镀膜设备，其核心原理是利用磁场与电场的交互作用，在靶材表面形成高密度等离子体，通过荷能粒子（如氩离子）轰击靶材，使靶材原子或分子溅射并沉积在基片表面，形成均匀、致密、高性能的薄膜。
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