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蒸发镀膜仪是一种在真空环境中，通过加热使材料蒸发并沉积到目标表面形成薄膜的设备，它在前沿科研和工业制造中都有广泛且关键的用途。本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜的多功能桌面型仪器。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。
设备参数：
★真空室：∅220mm*H380mm（可选石英腔体或不锈钢腔体）；
★最大可镀工件直径：DN100mm,配卡口或抽查式样品台，样品可旋转；另配备铜基板样品台；
★极限真空度：优于5*10-5Pa（机械泵系统）、优于8*10-5Pa（分子泵系统）；
★抽气时间：大气压~6*10-4Pa小于300min；
★蒸发源：电阻式蒸发电极（1对），配挡板系统；
★蒸发电源 功率：2KW；配备1套数显蒸发电源；
★开启方式：正面开门结构或钟罩开启，便于换丝及装料；
★真空系统：机械泵真空系统（机械泵+分子泵系统选配）；
★标配PLC+触摸屏控制。
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