扫一扫
关注公众号
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）是一种利用等离子体能量激活化学反应，在低温条件下实现薄膜沉积的先进工艺。其核心原理是通过射频（RF）、微波或直流放电将反应气体电离，形成包含电子、离子和自由基的高活性等离子体。这些活性粒子在基底表面发生化学反应，生成固态薄膜，从而将传统化学气相沉积（CVD）所需的高温（通常>600℃）降低至100-400℃，甚至室温。
QQ客服